雙偏心半球閥是為解決“氣-固”或“液-固”兩相混流介質(zhì)輸送中帶有沉淀、結(jié)垢和結(jié)晶析出介質(zhì)的技術(shù)難題而研制開發(fā)的新型偏心半球閥。 因為在常用閥門使用過程中,閥門的磨損和結(jié)垢是影響其使用壽命的主要因素,雙偏心式半球閥以其獨有的啟閉方式與偏心結(jié)構(gòu)、硬密封的特點,關(guān)閉切除結(jié)垢, 刮凈密封面上的附著物,從而順利地實現(xiàn)開啟與關(guān)閉,磨損自行補償,開辟了解決常用閥門存在問題的新途徑。但由于此種閥的核心部件—閥芯,其密封面堆焊了 耐磨合金,在研磨成一定要求的球面時采用的加工手段是手工研磨,制約了產(chǎn)品質(zhì)量的提高和產(chǎn)量的批量化。為此,本文對閥芯加工中的研磨工藝進行了分析研究, 設(shè)計出一種新穎可靠的自動研磨機構(gòu),滿足了生產(chǎn)要求。
研磨實驗表明:平面量塊及圓柱量規(guī)研磨時,當(dāng)其軌跡為正弦波時,其幾何精度、表面粗糙度很高。通過對半球閥閥芯研磨過程和研磨機理的研究,在球面上進行模擬操作實驗證明:軌跡若為正弦波軌跡時,其幾何精度、表面粗糙度亦可以達到較高的水平;研磨速度(0.33~1.54mPmin)增大使研磨效率提高;但當(dāng)速度過高(0.5~100mPmin)時,由于離心力作用,使研磨劑甩出工作區(qū),研磨運動平穩(wěn)性降低,研具磨損加快,從而降低研磨加工精度,在一定范圍內(nèi)(0.1~0.3MPa)增 加研磨壓力可提高研磨效率。當(dāng)壓力大到一定值時,由于磨粒破碎及研磨接觸面積增加,實際接觸點的接觸壓力不成正比增加,研磨效率提高并不明顯;另一方 面,對于同樣的磨粒,研磨壓力減小對提高表面粗糙度有利。一般粗研多用較低速、較高壓力;精研多用低速、較低壓力。為此,在設(shè)計偏心球面研磨機構(gòu)時,著 重考慮了正弦波軌跡的實現(xiàn)、研磨速度和研磨壓力的控制。
研磨機的運動原理如圖1所示,n1是研具的轉(zhuǎn)速,n2是閥芯的轉(zhuǎn)速,兩者方向相反同軸(z軸),另外,閥芯繞y軸擺動,往復(fù)轉(zhuǎn)速為n3。在水平面上,閥芯球面上任一磨粒在水平面(xy平面)內(nèi)的合速度為(v1-v2), 如圖2所示。在xz平面內(nèi),設(shè)磨粒的速度為v3,則磨粒的實際速度v=v1-v2+v3。當(dāng)擺動按正弦波規(guī)律運動,v1、v2與之合理匹配時,其磨粒軌 跡類似于振動衰減的正弦波,如圖2所示。在n點處,其速度為v1+v2,v3=0。由圖2可看出,若閥芯只作往復(fù)擺動,在m點與n點處的研磨軌跡就有很 大差別,其去除材料量、磨損、磨削等產(chǎn)生嚴重不均勻,閥芯的球面度、表面粗糙度就很難達到均勻一致,不能滿足要求,為此應(yīng)使閥芯有一轉(zhuǎn)速n2,不斷連續(xù) 變動閥芯位置,使整個球面的研磨、磨損等均勻一致。
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